お知らせ

洗浄基礎とプロセス最適化の総合知識
~洗浄のメカニズム、トラブル対策、高品質洗浄の実現まで~


対面での講義になります。
日時:2026年10月22日(木) 10:30-16:30 

会場:(東京・大井町)きゅりあん 4階研修室

【習得できる知識】
・湿式洗浄の基礎、メカニズム、理論の概要がわかる
・洗浄液や洗浄装置の概選定ができる
・洗浄不良への対応方法がわかる

【講座趣旨】
 本セミナーでは、湿式洗浄のメカニズムを理解するとともにそれを応用して実際の洗浄品質の向上に取り組めることを目的としています。
 概要ですが、まず湿式洗浄の基本である「5つの基本工程と3つの分離メカニズム」を理論含めて説明します。洗浄工程を考える時の標準になるものです。洗浄品質が良くない場合はこの基本工程のどれかに問題があることになります。
 次に「水系、準水系、非水系洗浄液」については単に洗浄液種類の羅列ではなく、種々の汚れに対する使い分けの方法を説明いたします。
 また「超音波洗浄」ではそもそもなぜ洗浄性が向上するのか、なぜその周波数で洗浄するのか等のメカニズムや、それを応用した洗浄強化方法を説明いたします。一方で超音波洗浄では使う洗浄液の性質や製品形状で洗浄性が変わることがあるので注意が必要です。
 「洗浄不良と対策」では、実際にあった洗浄不良の原因と対策例、陥りがちな悪い行動例を含めながら、対処方法の基本を説明します。
 「高品質洗浄への取り組み」では、上述の洗浄メカニズムをどのように実洗浄で応用するのかを説明いたします。貴社製品材料の表面張力データの取得方法や、それを用いた汚れの分離エネルギー計算、DLVO再付着防止シミュレーション(エクセルソフトは事前配布します)、およびハンセン溶解度パラメーターを用いた洗浄液の選定を説明します。また最後に最近の半導体洗浄に関してお話しいたします。